規(guī)格:
1. 型號：HPD-2400；
2. 電源：三相AC380V（±10%）
3. 功率：1000VA；
4. 電極尺寸：500mm×450mm；
5. 設(shè)備尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設(shè)備重量：180kg
7. 腔體壓力：500~3000Pa
用途：
1. 酶標(biāo)板、細(xì)菌計(jì)數(shù)培養(yǎng)皿、細(xì)胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過等離子體處理后細(xì)菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細(xì)胞黏附鋪展的能力.并適用于細(xì)胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗(yàn)證，處理過的樣品表面完全被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。
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